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輝光放電光譜儀的特點和應用

點擊次數:467  發布時間:2020-05-25

輝光放電分析(GDA)于1968年*出現,初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。 這種分析方法不斷地發展,尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統的激發技術相比,輝光放電技術的突出優點是能夠表層分析樣品的表層。

 

主要特點

 

1.涂(鍍)層材料和均相材料化學成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測和測量

 

2.濃度分布測定和表層測量數據的定性/定量評價

 

3.測定被分析表面層內部的相相比

 

4.軟件基于Windows 2000環境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶能很快地熟悉儀器的使用。

 

5. 分析軟件具有強大功能并且靈活易用,具有許多適于用戶的軟件功能選項,如顯示輸出、數據傳輸和數據格式。

 

6. 化學成分可以與其他特性,如被分析區域中的密度和質量分布同時測定

 

 

應用領域

 

塊狀樣品分析

 

GDA750可用于塊狀樣品的分析(如金屬合金的化學成分),為復雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。

 

工藝過程佳化

 

通過比較涂(鍍)層工藝過程(CVD,PVD)前后的表面特性,確保生產工藝過程佳化和大程度地避免廢品浪費。

 

非導體材料和涂層

 

采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質和油漆涂層。

 

GDA750可以配備60個以上的分析通道,并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂(鍍)層的深度可測量至200um,表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。

 

適用于質量控制和材料研究

 

在金屬分析領域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。表面處理工藝過程中,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區域實現質量控制。

 

采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂(鍍)層厚度及化學成分。對于傳統的分析方法不能解決的材料分析問題,輝光放電光譜技術可以作為優先選用的方法。

 

 

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